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单体式装饰镀kraken官网地址(TC系列)

    应 用:

  • 高端装饰彩色膜、防指纹膜。

    金色系(氮化钛、氮化锆、氮碳化钛)。

    黑色系(碳化钛、碳化铬、碳化钨、类金刚石)、

    银色、蓝色、咖啡色及杂色等

    技术特点:

  • 工艺易调整、重复性强,膜层均匀细腻、膜层光亮度佳、

    不易划伤、耐磨损、长久使用不变色。能耗低、高性价比、

    占地面积小、丰富的膜层色彩种类、易操作和维护

    关键数据:

  • 真空室尺寸:可根据客户需求定制

    全自动电控系统:触摸屏智能界面

    设备尺寸:

  • 4000(L)×3600(W)×2400(H)

哑铃式磁控溅射卷绕镀膜机

    应 用:

  • 泡沫镍(混动汽车电池材料)、金属镀膜、导电薄膜

    技术特点:

  • 六个平面溅射工位、可实现双面镀膜、具备往复连续概念、

    可实现灵活多层膜系、可兼容多种柔性材料、全自动镀膜过程

    关键数据:

  • 典型基材类型:PE、泡沫塑料

    基材卷径φ1050mm

    卷绕速度5米/分

    设备尺寸:

  • 4000(L)×3600(W)×2400(H)

磁控溅射卷绕镀膜机

    应 用:

  • 印刷包装膜、金银线、包装纸、电容膜、柔性电路板

    技术特点:

  • 12个溅射靶,可一次实现多种材料多层镀膜可兼容多种柔性材料

    关键数据:

  • 典型基材类型:PET、PI、CPP、BOPP、PCV

    镀膜幅宽可达1600mm

    基材卷径可达700mm

    卷绕速度5米/分

    镀膜方式:单面

    基材的厚度PET&PI最薄可达12μm

    设备尺寸:

  • 5000(L)×4000(W)×4000(H)

立式连续磁控溅射kraken中国生产线

    应 用:

  • TFT、LCD、太阳能等光学、电子薄膜。可镀制ITO、AZO、Nb2O5、

    iO2、Al2O3、TiO、ZrO等氧化物,也可镀制AlN、SiN、ZrN、

    TiN等氮化物,还可镀SiAl合金、Mo、Cr、Ti、Zr等纯金属薄膜

    技术特点:

  • 模块化设计、进口组件高端配置、基片架自动回程、控制系统采用

    PC+PLC自动控制、阴极可选(平面或者旋转阴极)

    关键数据:

  • 基片尺寸:最大可达2200×2500

    节拍:最快速度可实现35’一个节拍

    镀膜方式:单、双面

    设备尺寸:

  • 设备定制

电子枪蒸发镀膜机

    应 用:

  • 手机结构件装饰膜、光学膜

    技术特点:

  • 12穴大型坩埚,可实现多层镀膜

    高精度控制工件高速旋转

    实时监控光学膜厚

    关键数据:

  • 设备最大内径φ2700mm

    镀膜方式:单面

    设备尺寸:

  • 5000(L)×4000(W)×3000(H)

DLC涂层磁控溅射镀膜机

    应 用:

  • 模具、刀具或汽车、缝纫机等零配件表面沉积耐磨涂层

    和润滑涂层的DLC涂层

    技术特点:

  • 涂层产品表面硬度可大幅提高、达到2500HV以上

    并拥有极低的摩擦系数(<0.1)

    明显减少加工中产生的刮痕及摩擦,大幅提高产品质量

    四支平面靶及两支离子源:可按需配置平面靶及离子源数量

    关键数据:

  • 真空室容积:φ1000*1000

    工位:18个,或按需提供

    设备尺寸:

  • 3820(L)×2980(W)×2300(H)

硬质涂层镀膜机

    应 用:

  • 该系列采用动态双驱动磁控阴极电弧技术,离化率高。可制备TiN、CrN、TiAlN、 AlTiN、AlCrN、AlCrSiN等单层或多层膜系。高效的涂层前离子刻蚀技术,保证 了涂层的结合力及性能。该系列设备在镀膜过程中无需打底层(过渡层),直接 成膜,沉积效率高

    技术特点:

  • 阴极电弧:φ160mm双驱动动态磁控阴极电弧×6

    平面矩形气体离子源

    关键数据:

  • 真空室容积:φ1250*1100

    工位:10个,或按需提供

    设备尺寸:

  • 3820(L)×2980(W)×2300(H)